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TiN或是TiCN薄膜的鍍膜相當常見，製程技術也不難，不管是 PVD (物理氣相層積)或是CVD(化學氣相層積)方法都非常適合進行薄膜製作...

...然後沉積在你的基板上面。稱為CVD。通常導入的氣體是要跟著反應的氣體 PVD 稱為物理氣相沉積，也就是只行物理反應，通入的氣體並沒有與裡面的預鍍材料...

...要依不同機台特性調配 簡易作法是先以化學噴塗顏色後在鍍上很薄很薄的 PVD TiO2膜 我以前是小鍍膜廠的研發 T 是偶還有其他顏色可搭配...

塑膠件只能 PVD 真空電鍍但一般金屬電鍍可分為 1.滾筒電鍍:大部分鍍啞單價...rarr;清洗)→鎳)→清洗)→鉻)→烤箱)→成品 5. PVD :外觀性好,抗氧化抗磨損單價高一般用於高及五金製品或沖床...

鍍率(或是鍍率不穩)降低的原因有很多 若所有因素均排除後 確定問題是由靶材造成 問題原因可能如下： 1. 同一鍋金屬用太久開始有雜質產生，造成蒸發溫度有些許偏移。 2. 咁鍋內金屬重量不同，造成電子束能量傳導不同使鍍率降低。 3. 咁鍋內靶材形狀不好，造成電子束距離太遠...

因為通常material在預熔加熱時,會有噴濺的狀況發生,蔽極式(電子槍發射方向轉彎270度)可以避免material噴濺而造成的設備異常,但是轉180度的電子槍也有人在用

在真空中擔心油氣倒灌問題，首先可以先將chamber內的油氣用去漬油、丙酮、酒精清洗、烘烤，然後再抽氣口加上一個cold trap就可以防止油氣從抽氣口倒灌，並且再使用實際的讓抽氣系統先暖機然後再開啟抽氣閥門進行抽氣

陰極電弧沉積是屬於離子鍍嗎??它是屬於物理器相沉積法，也是屬於離子鍍。 依序介紹幾個觀念，你這樣會比較清楚唷！ 「真空電弧法原理」：真空電弧法是把真空弧光放電用於蒸發源的鍍層技術，將靶材蒸汽粒子從陰極靶表面釋放發射，其中大部份生成離子和微滴。離子是本...