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  1. ...後方可 PVD ,塑件以ABS PC或 純ABS 也需水電鍍後方可 PVD , 製程 也要看你的應用為主,鐵件、塑件皆可用離子鍍法、濺鍍法及蒸鍍法 披覆,重點...

    分類:科學 > 其他:科學 2007年07月23日

  2. ...氧與矽的氧化作用形成二氧化矽薄膜的 製程 稱為氧化。譬如閘極氧化層(gate oxide...分為化學氣相沈積(cvd)與物理氣相沈積( pvd )。 譬如介電氧化(SiO2)層(dielectric...沈積( pvd ),一般用於金屬薄膜的形成,其 原理 是利用被加速的鈍氣(ex. Ar...

    分類:科學 > 化學 2006年04月25日

  3. ...簡稱CVD)通常稱為化學蒸鍍。 物理氣相沈積(物理蒸鍍)( PVD ) PVD 顧名思義是以物理機制來進行薄膜湚積而不涉及化學反應的 製程 技術,所謂物理機制是物質的相變化現象,如蒸鍍(Evaporation),蒸鍍...

    分類:科學 > 化學 2006年02月26日

  4. ..., 不過大多分布在後段 製程 . 在此之前可能要先弄清楚是負責CVD, PVD , CMP or ECP哪一部分, thin film module 裡的這些 製程 結構 原理 相差甚遠, 而且 製程 工作內容十分繁雜, 包括process control, recipe tunning and trouble...

  5. ...所以你指的薄膜 製程 應該是針對CVD和 PVD 而言吧。 CMP 製程 比較特殊,算是半導體 製程 裡的傳統工業(早期...head & ring.....)和defect的控制,和其他 製程原理 相差較大,而且除了STI CMP屬...

  6. ...現象的方式,來近進行薄膜沉積的一種技術 。在半導體 製程 中主要的 PVD 技術,有蒸鍍 (Evoaporation) 及濺鍍 (Sputtering) 等兩...

    分類:科學 > 其他:科學 2007年03月12日

  7. ...了解可能性不大 記得以前台中科博館有台積電捐贈的半導體 製程 介紹,不知道現在還有沒有, 你若有空過去可以參觀一下...%E4%BB%8B.pdf 有CVD及 PVD 光罩蝕刻等的說明。 http://bm.nsysu.edu.tw/tutorial/iylu/94om...

    分類:科學 > 工程學 2011年01月28日

  8. ...介紹幾個觀念,你這樣會比較清楚唷! 「真空電弧法 原理 」:真空電弧法是把真空弧光放電用於蒸發源的鍍層技術...陰極靶表面釋放發射,其中大部份生成離子和微滴。離子是本 製程 中最重要的物種,靶材的離子化蒸汽受到相對於真空艙和...

    分類:科學 > 其他:科學 2007年11月15日

  9. 1.半導體 製程 裡面有哪些形成薄膜技術(例如:物理氣象成機...等等, 二、物理氣相沉積法( PVD )。 2. PVD 、CVD化學的主要差異在哪? PVD :為物理 原理 的沉積方式來形成薄膜 CVD:為化學...

    分類:科學 > 工程學 2010年02月03日

  10. 你應該是指機台為何需要要真空吧? PVD - 物理氣相沉積 - 低真空 才能提供濺鍍... - 化學氣相沉積 - 利用流體力學 原理 , 越低壓均勻度, step coverage 越好 但沉積...觀念等 找些真空技術的書即有 或半導體 製程 的書

    分類:科學 > 其他:科學 2006年07月11日