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  1. PVD 顧名思義 是 以物理機制來進行薄膜湚積而不涉及化學反應的製程技術,所謂物理機制 是 物質...轉化為氣態濺鍍(Sputtering),蒸鍍源則由氣態轉化為電漿態。 CVD 是 將反應源以氣體形式通入反應腔中,經由氧化,還原或與基板反應之方式進行化學...

    分類:科學 > 化學 2005年11月01日

  2. ...曝光跟顯影的製程 Etch就是蝕刻,目的就是將我們不需要的地方吃掉,通常 是 跟黃光搭配,黃光決定好圖形後,蝕刻在將不需要的地方蝕刻掉 PVD 就是物理氣相沉積,利用電漿將靶材的原子擊落,然後沉積到基版的過程 CVD...

    分類:科學 > 工程學 2008年08月16日

  3. 問一下永源科技ㄅhttp://www.surftech.com.tw不過他們 是 做工具鍍膜ㄉ.成霖的衛浴ㄝ有用 PVD 打. 飾品打 PVD是 OKㄉ重點 是 膜厚! 類鑚膜應該不適合,

    分類:科學 > 工程學 2005年06月24日

  4. pvd nho ........ ba ad . ix wnu fpx xy ha fe 傷害… 不會。我沒放在心上 wnu x ive a ive ard , oba x , x wnu x enhp qow . 沒有誰對誰錯, 只有,有沒有愛過 用無蝦米打的。

  5. 陰極電弧沉積 是 屬於離子鍍嗎??它 是 屬於物理器相沉積法,也 是 屬於離子鍍。 依序介紹幾個觀念,你這樣會比較清楚唷! 「真空電弧法原理」:真空電弧法 是 把真空弧光放電用於蒸發源的鍍層技術,將靶材蒸汽粒子從陰極靶表面釋放發射...

    分類:科學 > 其他:科學 2007年11月15日

  6. ...之後最具競爭力之晶圓 2006-10-31 17:39:44 補充: 目前尚在實驗室研究階段,多 是 用CVD或 PVD 方式生成鑽石薄膜,良率與尺寸問題仍待克服

    分類:科學 > 其他:科學 2006年11月04日

  7. 有很多耶 ,我就知道PAM 335 我買過這支 http://www.ezzigo.com/ViewDetails6047.aspx

  8. 鍍鈦的產品不可以用 什麼 溶劑來擦拭 擦拭後會將鍍鈦表面腐蝕 ? 依我爬文後~應 是 您工法過程原理不對 鍍膜的原理說明: 真空離子鍍膜 PVD是 英文Physical...原理說明: 本公司採用的 是 一種先進又環保的金屬表面...

    分類:家居與園藝 > 維修 2010年06月09日

  9. SPUT=sputter, 在台積裡又稱為 PVD (物理氣相沉積) 在台積 是 屬於薄膜工程部(Thin-Film)。

  10. ... SiNx 等). 3. 薄膜製程: 金屬類薄膜: 以 PVD 製程為主, 如濺鍍(sputter), 蒸鍍(evaporation) 非金屬薄膜: ... chemical vapor deposition) PS: thin film 是 很專業的一門學問, 很難簡短的回覆, 但thin film 在高科技...

    分類:科學 > 化學 2011年04月19日